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光觸媒生產(chǎn)設備及灌裝方案

光觸媒生產(chǎn)設備及灌裝方案

隨著現(xiàn)在工業(yè)的快速發(fā)展,隨之而來給我們的是空氣污染問題。正在大家惆悵之時,一個新興的名詞《光觸媒》映入人們的眼球,光觸媒在光照射下,能吸收相當于帶隙能量以下的光能,使其表面發(fā)生激勵而產(chǎn)生電子和空穴。這些電子和空穴具有很強的還原和氧化能力,能與水或容存的氧反應,產(chǎn)生氫氧根自由基和超級陰氧離子。光觸媒就
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隨著現(xiàn)在工業(yè)的快速發(fā)展,隨之而來給我們的是空氣污染問題。正在大家惆悵之時,一個新興的名詞《光觸媒》映入人們的眼球,光觸媒在光照射下,能吸收相當于帶隙能量以下的光能,使其表面發(fā)生激勵而產(chǎn)生電子和空穴。這些電子和空穴具有很強的還原和氧化能力,能與水或容存的氧反應,產(chǎn)生氫氧根自由基和超級陰氧離子。光觸媒就是通過這些離子產(chǎn)生的化學效應把空氣中存有的甲醛去除。目前,新裝修的房子里面普通存在甲醛污染,如處理不當,對人們的生活會有一定的影響。所以,新型的納米光觸媒的問世,給大家生活帶來了不少便利,越來越受到大家的喜愛,并且使用方便。

光觸媒生產(chǎn)工藝流程

光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱。光觸媒在光的照射下,會產(chǎn)生類似光合作用的光催化反應,能產(chǎn)生氧化能力極強的自由氫氧基和活性氧,具有很強的氧化還原功能,可氧化分解各種有機化合物和部分無機物,能破壞細菌的細胞膜和固化病毒的蛋白質。目前的光觸媒生產(chǎn)過程中,一般先將原料二氧化鈦與純水混合研磨,隨后將研磨得到的混合物密封存儲,在光照條件和合適的溫度條件下放置一定時間,得到光觸媒濃縮液。然后,通過專用的設備來灌裝。這里以二元噴霧型光觸媒為例,其流程為:原液生產(chǎn)-理瓶--上閥門-自動封口充氣-強制灌液-上噴嘴-上大蓋-噴碼-裝箱出庫。

光觸媒生產(chǎn)流程圖

光觸媒生產(chǎn)設備

光觸媒生產(chǎn)設備是指原液的生產(chǎn),將制作光觸媒的原料按照合適的配比與去離子水通過專用的設備混合均勻。在制備中,需要的設備有水處理設備,攪拌罐、儲料罐等等。設備如圖所示:

光觸媒生產(chǎn)設備

水處理設備利用反滲透原理,由過濾器、高壓泵、反滲透膜及各種控制及顯示儀表組成。設備可有效的吸附原水中的重金屬、游離氯、氯仿等有害物質,生產(chǎn)出的去離子水純度高,可滿足食品級用水要求。

攪拌罐又稱為反應釜,通過里面的攪拌裝置將物料進行充分混合均勻,廣泛地應用于醫(yī)藥、建材、化工、顏料、樹脂、食品等行業(yè),具有加熱迅速、耐高溫、耐腐蝕、衛(wèi)生、無環(huán)境污染、無需鍋爐自動加溫、使用方便等特點。

光觸媒灌裝設備選擇

光觸媒灌裝設備的選擇是由它的原液特性和包裝來決定的,目前市場上的光觸媒噴霧產(chǎn)品都采用的是二元包裝形式,就是在馬口鐵罐或鋁罐里面有一個囊袋,料液裝在囊袋里面,拋射劑氣體在罐體和囊袋之間,劑料與拋射劑充分形成了一種隔離,這樣產(chǎn)品既安全又衛(wèi)生。

針對客戶不同產(chǎn)量差異化需求,光觸媒灌裝設備分為全自動和半自動設備,對于大規(guī)?;a(chǎn)企業(yè),產(chǎn)量高,銷貨渠道穩(wěn)定,我們推薦上全自動設備,整條線包含理瓶、三頭二元充氣封口機、六頭灌液機、輸送帶及工作臺。如果資金充足,還可以加配二元測內壓機、稱重機、水浴檢測機、扣噴頭機、扣外蓋機等,滿足線性化生產(chǎn)需求。

全自動光觸媒灌裝設備


技術參數(shù)
生產(chǎn)速度:35-50 cans/min
液體灌裝:Max 550ml/one stroke/head
適用氣霧罐高度:70-300mm
適用氣霧罐直徑:40-65mm
閥門:1 inch male BOV and female BOV
充氣精度:±0.03Mpa
液體灌裝精度:≤±1%
拋射劑:N2, compressed air
氣源:0.6-0.7Mpa
耗氣量:6m3/min




對于小規(guī)?;a(chǎn)企業(yè),產(chǎn)量低,簡單的半自動設備就可以滿足。設備由一個充氣封口機和一個強制灌液機組成,結合在一個工作臺面上,PLC控制系統(tǒng),操作簡單,一個工人就能完成。

半自動光觸媒灌裝設備


技術參數(shù)

生產(chǎn)速度:≤15cans/min
液體灌裝:Max 550ml/one stroke/head
適用氣霧罐高度:70-300mm
適用氣霧罐直徑:35-65mm
閥門:1 inch male BOV and female BOV
充氣精度:±0.03Mpa
液體灌裝精度:≤±1%
拋射劑:N2, compressed air
氣源:0.6-0.7Mpa
耗氣量:1.2m3/min





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